中國(guó)報(bào)告大廳網(wǎng)訊,全球生產(chǎn)光刻膠的企業(yè)有富士電子材料、信越化學(xué)、日本合成橡膠、東京日化、羅門哈斯等。隨著半導(dǎo)體行業(yè)的快速發(fā)展,光刻膠市場(chǎng)需求保持了良好的增長(zhǎng)態(tài)勢(shì)。
光刻膠又稱光致抗蝕劑,是指通過紫外光、電子束、離子束、X射線等的照射或輻射,其溶解度發(fā)生變化的耐蝕劑刻薄膜材料,在半導(dǎo)體工業(yè)、PCB、平板顯示等領(lǐng)域得到廣泛應(yīng)用。
光刻膠起源于美國(guó),柯達(dá)KTFR光刻膠為光刻膠工業(yè)的開創(chuàng)者,光刻膠跟隨摩爾定律不斷演進(jìn)。1950s貝爾實(shí)驗(yàn)室嘗試開發(fā)首塊集成電路,半導(dǎo)體光刻膠由此誕生,并成為六七十年代半導(dǎo)體工業(yè)的主力體系,為半導(dǎo)體工業(yè)發(fā)展立下汗馬功勞。
光刻膠屬于技術(shù)和資本密集型行業(yè),目前核心技術(shù)主要掌握在日、美等國(guó)際大公司手中,全球供應(yīng)市場(chǎng)高度集中,日本JSR等五家龍頭企業(yè)占據(jù)全球光刻膠市場(chǎng)87%的份額。同時(shí),海外龍頭已實(shí)現(xiàn)高端制程量產(chǎn),其中日本主要廠商已實(shí)現(xiàn)領(lǐng)域內(nèi)最先進(jìn)的EUV光刻膠的量產(chǎn),以陶氏、德國(guó)默克、錦湖石化為代表的其他光刻膠廠商也已實(shí)現(xiàn)ArF光刻膠的量產(chǎn)。
從全球市場(chǎng)來看,2022年行業(yè)CR6約為88%,市場(chǎng)集中度高。東京應(yīng)化、JSR、住友化學(xué)、富士膠片四大日本企業(yè)分別占據(jù)27%、13%、12%、8%的市場(chǎng)份額,陶氏化學(xué)占據(jù)17%的市場(chǎng)份額,韓國(guó)東進(jìn)占據(jù)11%的市場(chǎng)份額。
我國(guó)光刻膠行業(yè)起步較晚,生產(chǎn)能力主要集中在PCB光刻膠、TN/STN-LCD光刻膠等中低端產(chǎn)品,其中PCB光刻膠占比達(dá)94%。先進(jìn)制程半導(dǎo)體光刻膠方面,g/i線膠自給率約10%,KrF膠自給率不足5%,ArF膠基本依靠進(jìn)口,而EUV膠還仍處研發(fā)階段。
我國(guó)政府這幾年大力扶持半導(dǎo)體與原料產(chǎn)業(yè)發(fā)展,陸續(xù)出臺(tái)了多項(xiàng)政策支持光刻膠行業(yè)發(fā)展,推動(dòng)產(chǎn)業(yè)大力研發(fā),突破“卡脖子”技術(shù),早日實(shí)現(xiàn)產(chǎn)業(yè)鏈核心技術(shù)國(guó)產(chǎn)化。
目前,雖然在總體研發(fā)和生產(chǎn)能力上,國(guó)內(nèi)公司還不能完全與BASF等國(guó)際競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手全面抗衡,但經(jīng)過多年技術(shù)積累 ,國(guó)內(nèi)已形成一定光刻膠用電子化學(xué)品產(chǎn)能,相關(guān)公司市場(chǎng)份額逐步提升,進(jìn)口替代正持續(xù)進(jìn)行。
光刻膠是集成電路、半導(dǎo)體、面板等行業(yè)必不可少的關(guān)鍵原材料,預(yù)計(jì)在集成電路、半導(dǎo)體、面板等行業(yè)的快速發(fā)展下,預(yù)計(jì)2023年光刻膠市場(chǎng)規(guī)模將繼續(xù)增長(zhǎng)。
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